公司现在研发的半导体设备，就是第三代光刻机
在这里，有必要介绍一下光刻机的发展历程
首先是光刻机的代际划分，其实是按光源算的，波长越短越先进
第一二光刻机分别是接触、接近式光刻机，光源是不同类型的汞灯，但一个产品不良率高,一个要用到介质容易影响成像，都不太理想
直到第三代，光源改成了氟化氪准分子激光，工作方式变成了扫描投影光刻
公司现在研发的半导体设备，就是第三代光刻机
和亲之宫女撩人：青梅竹马（二） 发表于 2019-12-23 08:40:02在这里，有必要介绍一下光刻机的发展历程
我的左手能开任意门：第一百七十六章，进入小院 发表于 2022-07-03 01:53:18首先是光刻机的代际划分，其实是按光源算的，波长越短越先进
天王狂卫林阳苏雪：第1085章 歼灭 发表于 2022-05-16 23:31:30第一二光刻机分别是接触、接近式光刻机，光源是不同类型的汞灯，但一个产品不良率高,一个要用到介质容易影响成像，都不太理想
织田作总是被误解：第263章 咒 发表于 2023-02-11 20:58:58直到第三代，光源改成了氟化氪准分子激光，工作方式变成了扫描投影光刻
斗破之韩枫的复仇：新书 发表于 2022-05-14 16:12:15